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NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 氣相離子源ION GUNS MODEL 1407 氣相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可調(diào)節(jié)
50KEV光斑可調(diào)節(jié)離子源配備雙燈絲可集成濾波器MODEL 1450，具有可調(diào)光斑尺寸≥5 μm，用于空間定義的濺射或注入發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流
美國 IK-TECHNOLOGIES 多探針分析系統(tǒng)：UHV 除了表面分析組件外，LK Technologies還專門設(shè)計和構(gòu)建完整的特高壓系統(tǒng)，這些系統(tǒng)通常結(jié)合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。
美國 IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀TDS1000 我們的TDS1000是一個集成的系統(tǒng)工具，使用戶能夠以高靈敏度和定量校準(zhǔn)獲得TPD光譜。
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源，針對高輸出電流進(jìn)行了優(yōu)化應(yīng)用于逆UPS，EELS等電子碰撞實驗。
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀MINICMA™ 對固體表面進(jìn)行微區(qū)成份分析及元素分布?？蓱?yīng)用于半導(dǎo)體材料、冶金、地質(zhì)等部門。
美國 IK-TECHNOLOGIES 俄歇能譜儀 ELS3000 俄歇電子能譜（Auger electron spectroscopy，簡稱AES），是一種利用高能電子束為激發(fā)源的表面科學(xué)和材料科學(xué)的分析技術(shù)。
LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)-RVL2000 的精密反向LEED低能電子衍射儀光學(xué)元件采用所有UHV結(jié)構(gòu)，無需使用玻璃纖維或聚合物涂層線束。提供完整系列的型號和選件，包括低電流（nA，pA）MCP型號。
